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詳細(xì)介紹
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體干法刻蝕設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體干法刻蝕設(shè)備
適合量產(chǎn)的NE-5700/NE-7800干法刻蝕設(shè)備是一款可擴(kuò)展的刻蝕設(shè)備,支持從一個(gè)腔室到多個(gè)腔室,強(qiáng)調(diào)性價(jià)比。
除1個(gè)腔體外,還可配備磁場(chǎng)ICP(ISM)、NLD等離子體源、灰化腔體、CCP腔體,兼容多種刻蝕工藝。
配備星形電極和各種溫度控制功能,可實(shí)現(xiàn)過(guò)程的再現(xiàn)性和穩(wěn)定性。
易于維護(hù)的結(jié)構(gòu),停機(jī)時(shí)間最短,全面的備份系統(tǒng),包括再生清潔、零件供應(yīng)、維護(hù)和培訓(xùn)服務(wù)。
半導(dǎo)體技術(shù)研究院提供完善的工藝支持系統(tǒng)。
化合物(LED、LD、高頻器件)和功率器件(IGBT 布線加工、SiC 加工)。
用于金屬布線、層間絕緣膜(樹脂類)、柵電極加工工序。
用于蝕刻鐵電材料和貴金屬。
用于加工磁性材料。
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