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詳細介紹
日本OTSUKA玉崎科學(xué)供應(yīng)大冢光學(xué)膜厚量測儀這是一款小型、低成本的膜厚計,采用高精度光學(xué)干涉法測量膜厚,操作簡單。
我們采用一體式外殼,將必要的設(shè)備存儲在主體內(nèi),實現(xiàn)穩(wěn)定的數(shù)據(jù)采集。
盡管價格低廉,但也可以通過獲得絕對反射率來分析光學(xué)常數(shù)。
日本OTSUKA玉崎科學(xué)供應(yīng)大冢光學(xué)膜厚量測儀產(chǎn)品信息:
緊湊、低成本、易于操作的膜厚測量。
通過選擇光譜儀和光源可以選擇測量膜厚范圍。
簡單的條件設(shè)定和測量操作,任何人都可以輕松測量。
配備實時監(jiān)控功能、模擬功能等。
測量光斑直徑φ3mm(標(biāo)準(zhǔn)),支持從3nm到35μm的薄膜到厚膜的廣泛測量。
絕對反射率測量
膜厚分析(10層)
光學(xué)常數(shù)分析(n:折射率,k:消光系數(shù))
功能膜、塑料
透明導(dǎo)電膜(ITO、銀納米線)、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、粘合劑、保護膜、硬涂層、防指紋代理等。
半導(dǎo)體
化合物半導(dǎo)體、Si、氧化膜、氮化膜、抗蝕劑、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、藍寶石等。
表面處理
DLC涂層、防銹劑、防霧劑等。
光學(xué)材料
濾光片、增透膜等。
FPD
LCD(CF、ITO、LC、PI)、OLED(有機薄膜、封裝材料)等。
其他
硬盤、磁帶、建筑材料等。
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